Acquisition, livraison, installation et mise en service d’un système de gravure par Difluorure de Xénon XeF2 en phase vapeur pour la gravure du Silicium pour le laboratoire IEMN
Acheteur : Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS Moy1800 Hauts-de-France)
Contrat notifié le 11 déc. 2024 pour 34 mois · Appel d'offres ouvert
- Publication estimée
- mai – septembre 2027
- Échéance
- 11 oct. 2027
- Montant précédent
- 319 k€
- Offres reçues
- 2
Probabilité de remise en concurrence, mesurée sur 1 589 contrats comparables.
- Notification estimée
- octobre 2027
- Durée précédente
- 34 mois
- Code CPV
- 22520000
Gratuit, sans carte bancaire.
Contact acheteur
Nom, téléphone et e-mail du service qui a publié les derniers appels d’offres.
Voir le contact gratuitementDonnées publiées par l’acheteur (DECP et BOAMP). Les dates de publication sont des estimations statistiques : voir la méthode.
Ce contrat est en cours chez 00001 jusqu’au 11 oct. 2027. L’acheteur devrait publier le nouvel appel d’offres sur la période mai – septembre 2027 : le cahier des charges et les pièces à fournir ne seront disponibles qu’à ce moment-là. D’ici là : suivez ce marché pour être alerté à la parution, et présentez-vous à l’acheteur (contact ci-contre) pour comprendre ses besoins avant vos concurrents.
Calendrier
Fenêtre estimée de publication de l’appel d’offres
Signaux d’opportunité
Comment sont-ils calculés ?- Concurrence faible
Seulement 2 offres reçues lors de la dernière consultation.
Titulaire sortant
Dans ce secteur, le titulaire sortant n’est reconduit que dans 54 % des renouvellements.
Historique sur ce besoin
2 autres contrats : besoin récurrent-
593 k€
L’objet de ce marché concerne l’acquisition, la livraison et la mise en service de deux dispositifs de gravure ionique réactive par plasma du type RIE-CCP utilisant des gaz fluorés ou dioxygène. L’un des deux réacteurs sera dédié à la gravure exclusive des matériaux SixNy, SiO2 et Si avec un masque de résine (appelé RIE_1), le deuxième sera ouvert à la gravure de mêmes matériaux et aussi de tous les matériaux pouvant être gravés par un plasma obtenu à partir de gaz fluorés ou dioxygène (appelé RIE_2).
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319 k€
Acquisition, livraison, installation et mise en service d’un système de gravure par Difluorure de Xénon XeF2 en phase vapeur pour la gravure du Silicium pour le laboratoire IEMN contrat actuel
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612 k€
Acquisition, livraison, installation et mise en service d’un système de gravure par plasma de type RIE-ICP pour la gravure de matériaux III- V pour le laboratoire IEMN
Que faire maintenant ?
- Prenez contact avec le service achats de Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS Moy1800 Hauts-de-France) avant la publication. Le sourçage est expressément autorisé par l’article R2111-1 du Code de la commande publique.
- Comprenez ce qui ne va pas avec le contrat actuel : délais, qualité, prix, couverture géographique. C’est votre angle d’attaque.
- Présentez une innovation ou une variante que l’acheteur pourra intégrer à son futur cahier des charges.
- Préparez votre dossier administratif (DC1, DC2, attestations, références) pour être prêt le jour J.