Appel d’offres imminent
L’objet de ce marché concerne l’acquisition, la livraison et la mise en service de deux dispositifs de gravure ionique réactive par plasma du type RIE-CCP utilisant des gaz fluorés ou dioxygène. L’un des deux réacteurs sera dédié à la gravure exclusive des matériaux SixNy, SiO2 et Si avec un masque de résine (appelé RIE_1), le deuxième sera ouvert à la gravure de mêmes matériaux et aussi de tous les matériaux pouvant être gravés par un plasma obtenu à partir de gaz fluorés ou dioxygène (appelé RIE_2).
Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS Moy1800 Hauts-de-France) · Nord
Concurrence faible